НАНОМАТЕРИАЛЫ И НАНОТЕХНОЛОГИЯ | |
ArticleName | Исследование фазового состава в образцах нанокомпозита por–Si/SnOx, подверженных термическому окислению, методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии |
ArticleAuthor | В. В. Болотов, С. Н. Несов, П. М. Корусенко, С. Н. Поворознюк |
ArticleAuthorData | Омский филиал Института физики полупроводников СО РАН В. В. Болотов, С. Н. Несов, П. М. Корусенко, С. Н. Поворознюк |
Abstract | Приведены результаты исследования методами рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии и электронной Оже−спектроскопии образцов нанокомпозита por−Si/SnOx с различными режимами термической обработки. Показано, что температурные обработки обуславливают увеличение глубины проникновения олова, а также повышение коэффициента стехиометрии х в соединении SnOx. Отжиг при температуре 600 °С приводит к сильному прокислению пористой матрицы и, как следствие, к закупорке каналов для диффузии олова. Применение оптимальных режимов термообработок позволяет получать слои нанокомпозитов por−Si/SnOх с достаточной толщиной для их применения в газовых микросенсорах. Авторы выражают благодарность В. Е. Росликову и Ю. А. Стенькину за предоставление образцов для исследований и проведение термообработок. |
keywords | Пористый кремний, наноструктуры, рентгенофотоэлектронная спектроскопия, электронная Оже−спектроскопия |
References | 1. Amato, G. On the apparently anomalous response of porous silicon to nitrogen dioxide / G. Amato, L. Boarino, F. Bellotti // Appl. Phys. Lett. − 2004. − V. 85. − P. 4409—4411. |
Language of full-text | russian |
Full content | Buy |