ЭПИТАКСИАЛЬНЫЕ СЛОИ И МНОГОСЛОЙНЫЕ КОМПОЗИЦИИ | |
ArticleName | Новые направления развития технологии производства ультрафиолетовых светодиодов |
ArticleAuthor | А. А. Антипов, И. С. Бараш, В. Т. Бублик, С. Ю. Курин, Ю. Н. Макаров, Е. Н. Мохов, С. С. Нагалюк, А. Д. Роенков, Т. Ю. Чемекова, К. Д. Щербачев, Х. Хелава |
ArticleAuthorData | ООО «Нитридные кристаллы» А. А. Антипов, И. С. Бараш, Ю. Н. Макаров, Е. Н. Мохов, С. С. Нагалюк, А. Д. Роенков, Т. Ю. Чемекова, Х. Хелава
ФГАОУ ВПО «Национальный исследовательский технологический университет «МИСиС» В. Т. Бублик, К. Д. Щербачев
С. Ю. Курин |
Abstract | Представлены результаты по созданию ультрафиолетовых светодиодов на основе гетероструктур GaN/AlGaN, выращенных на подложках AlN методом хлоридно−гидридной эпитаксии. Пиковые длины волн находятся в диапазоне 360—365 нм, ширина спектральной кривой составляет 10—13 нм, выходная оптическая мощность чипов светодиодов — 50 мВт при токе 350 мА. Работа выполнена при частичной финансовой поддержке Министерства науки и образования Российской Федерации (государственный контракт от 16 ноября 2009 г. № 02.523.12.3028). |
keywords | Ультрафиолетовый светодиод, нитрид алюминия, хлоридно−гидридная эпитаксия, гетероструктура, чип |
References | 1. Макаров, Ю. Н. Подложка нитрида алюминия диаметром 2 дюйма для приборов оптоэлектроники / Ю. Н. Макаров // VIII Всеросс. конф. «Нитриды галлия, индия и алюминия – структуры и приборы». − СПб: ФТИ им. Иоффе, 2011. − С. 59—62. |
Language of full-text | russian |
Full content | Buy |